인텔, 태양보다 더 뜨거운 레이저를 방출할 수 있는 최초의 EUV 제작 도구 설치

칩 메이저 인텔이 세계 최초의 상업용 고개구수(NA) 극자외선 리소그래피(EUV) 스캐너 조립을 완료했다고 발표했습니다. 이 장치는 인쇄된 이미지를 실리콘 웨이퍼에 투영하는 데 사용되는 광학 설계를 변경하여 차세대 칩의 해상도와 기능 확장을 획기적으로 향상시킵니다.
Hillsboro에 있는 Intel의 D1X 연구 시설에서 조립된 150-톤 리소그래피 장비는 현재 보정 단계를 거치고 있습니다. 이를 통해 칩 제조업체는 실리콘 웨이퍼에 작은 패턴을 에칭하여 컴퓨터 칩용 소형 회로를 만들 수 있습니다.
네덜란드 회사인 ASML은 이 도구를 만드는 세계 유일의 회사입니다. 인텔의 모델은 전 세계에 단 두 개뿐인 모델 중 하나입니다.
인텔 공장의 노동자들은 흰색으로 유명하며 일반적으로 "버니 슈트"(Bunny Suit)를 머리부터 발끝까지 차려 입습니다. 버니 슈트(Bunny Suit)는 '클린룸 슈트'를 말하며, 클린룸 작업자의 표준 장비로, 피부, 머리카락, 옷 등의 입자가 컴퓨터 칩의 미세한 특징을 손상시키는 것을 방지합니다.
Hillsboro에 있는 Intel의 대규모 연구 시설에서는 최근 헬멧이라는 또 다른 액세서리가 일반화되었습니다.
Intel 공장의 작업자들은 무게가 150톤에 달하는 거대한 제조 도구를 조립하는 데 몇 달을 보냈습니다. 이는 현존하는 가장 진보된 리소그래피 도구로, 세계에서 단 두 개 중 하나이며 네덜란드 회사 ASML이 제작합니다.
이 대규모 장치는 NA(High Numerical Aperture) EUV 제작 도구라고 합니다. 공장의 이층버스만한 크기지만, 눈에 보이는 것은 전체의 일부일 뿐이다. 이 도구는 실제로 천장 위와 바닥 아래로 확장됩니다.
거기에서 EUV(극자외선) 도구는 태양 표면보다 40배 더 뜨거운 에너지를 폭발적으로 초당 50000회 작은 주석 방울에 레이저를 발사합니다. 결과적인 충돌로 인해 지구에서는 자연적으로 발생하지 않는 자외선의 그림자가 생성됩니다.
따라서 이 매우 큰 생산 도구는 매우 작은 것, 즉 파장이 수십억분의 1미터에 불과한 빛을 생산합니다. 이러한 작은 빛의 파동을 통해 반도체 제조업체는 이전보다 더 작은 해상도를 컴퓨터 칩에 새길 수 있으며, 이는 더욱 강력한 컴퓨터 세대를 위한 길을 열어줍니다.
Intel의 기술 개발을 이끄는 데 도움을 주고 있는 Intel 부사장인 Jeff Birdsall은 "우리는 물리학의 최첨단에서 혁신을 이루고 있습니다."라고 말했습니다.
인텔은 제조 기술에 대해 입을 다물고 있는 것으로 알려져 있다. 이번에는 판매 행사에서 새로운 장난감을 선보였습니다. 이번 달 이 회사는 언론인, 심지어 BBC 뉴스 제작진까지 Hillsboro 공장에 초대하여 대중과 잠재 고객에게 Intel의 변혁 스토리를 소개하고 경쟁업체가 아직 보유하지 못한 제조 도구를 선보였습니다.
Intel의 기술은 지난 10년 동안 심각하게 궤도를 벗어났습니다. 부분적으로는 회사가 공장에서 최초의 EUV 도구를 채택하는 데 시간이 오래 걸렸기 때문입니다. 이를 통해 아시아의 경쟁업체는 훨씬 앞서 나갈 수 있었지만 인텔은 따라잡기 위해 엄청난 대가를 치러야 했습니다.
인텔은 이제 전 세계 최첨단 공장에 1000억 달러를 투자하기로 약속했습니다. 여기에는 Intel이 차세대 칩 기술을 개발하고 있거나 Intel이 새로운 프로세스 노드라고 부르는 Hillsboro 단지를 업그레이드하는 데 360억 달러가 포함됩니다.
Intel Oregon 연구 시설의 10,000 엔지니어와 기술자는 그 돈을 투자하고 있으며 새로운 리소그래피 도구가 그 노력의 중심에 있습니다. 각 EUV 기계의 가격은 4억 달러에 가깝고, 인텔은 오레곤 공장과 전 세계에 퍼져 있는 다른 공장을 갖추기 위해 많은 장비가 필요할 것입니다.
인텔은 새로운 리소그래피 도구에 대한 작업을 몇 달 전에 진행하여 기능을 테스트하고 사용 방법을 학습했습니다. 더욱 발전된 기술을 사용하는 최초의 상용 칩은 최소 2년 동안 출시되지 않을 것입니다.